欲測礦物要保持相同測試條件
所以該方法被國際礦相學(xué)委員會規(guī)定為定量測定礦物反射率的標(biāo)準(zhǔn)。以下因素會影響反射率和雙反射的正確測定，必須注意。光源 光源強度及入射光波長對反射率影響很大。光源越強，反射率就越高;波長改變，反射率也隨之改變(表 )。
可見，回轉(zhuǎn)窯測定反射率時，對標(biāo)樣和欲測礦物要保持相同的測試條件。光片光片表面磨光質(zhì)量要高，做到無擦痕、麻點或氧化膜等，否則會降低礦物的反射率。此外，冶金回轉(zhuǎn)窯光片必須嚴(yán)格壓平，若光片表面與入射光不垂直，則會影響反射光的方向，降低礦物的反射率。
反擊式破碎機其他因素 浸沒介質(zhì)、放大倍數(shù)、焦距、內(nèi)反射及溫差等因素均能影響反射率的高低。礦物光片在單偏光鏡下呈現(xiàn)的顏稱為礦物的反射。反射隨礦物方位而變化的現(xiàn)象稱為反射多。反射與肉眼觀察礦物標(biāo)本時的顏有所不同，它是由礦物磨光面對鏡下光線直射時的選擇反射作用造成的“表”。